正电子测试（材料缺陷测试）PALS

正电子湮没测试（自有设备测试）

正电子湮没技术，是一项较新的核物理技术，它利用正电子在凝聚物质中的湮没辐射带出物质内部的微观结构、电子动量分布及缺陷状态等信息，从而提供一种非破坏性的研究手段而备受人们青睐。现在正电子湮没技术已经进入固体物理、半导体物理、金属物理、原子物理、表面物理、超导物理、生物学、化学和医学诸多领域。特别是材料科学研究中，正电子对微观缺陷研究和相变研究正发挥着日益重大的作用。

测试样品要求

1，理想样品尺寸面积10x10 mm（固体粉末直接压片为直径10毫米以上的圆片），样品的厚度至少要有1 mm。如果样品制备特别困难，也可以使用最小尺寸为8x8 mm（或直径8毫米）的样品，样品厚度也可比1 mm略小。当单片样品较薄时，可以用多片样品叠加。

2，一组样品要同样的2片;不同样品尽量保持在同一压力下进行压片。

一般样品测试时间？

5-6小时/样品

是否支持低温或者变温？

一般不支持。变温需要定制测试方案。

能测的材料有哪些？

金属，非金属，聚合物，半导体等。

能测的模式有哪些？

寿命谱，多普勒展宽谱，AMOC（关联谱）。

测试对材料结构有破坏吗？

没有破坏，正电子测试是一种无损检测。

你们包括后面的数据分析吗？

可以的，解谱和分析都是可以的，分析需要单独收费。